단일시스켐
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반도체
Silicon Process Gases
Polycrystalline Silicon, Epitaxial Silicon, Silicon Dioxide, Silicon Nitride를 침착시키는 실리콘 원자의 원천으로 사용
Dopants Gases
반도체물질의 전기적 특수성을 수정시켜주는 일종의 불순물의 원천으로 사용
Etchant Gases
에칭공정에 주로 사용되는 가스류로서 Silicon, Silicon Nitride와 결합하여 휘발성물질 형성
Atmospheric Gases
반도체 제조업체에서 House purge line에서 발생할 수 있는 역류오염을 막기위한 공정시스템과 장비를 퍼징할때 사용
Reactants Gases
Reactant 공정에 사용
Corrosive Gases
에칭용으로 사용되며, 가스설비의 부식방지와 공정성능의 향상을 위해 고순도의 가스 사용